Nhà sản xuất chip Intel của Mỹ cùng với Viện Khoa học và Công nghệ Công nghiệp Tiên tiến Quốc gia Nhật Bản sẽ xây dựng một trung tâm nghiên cứu và phát triển tại Nhật Bản về công nghệ sản xuất chất bán dẫn tiên tiến nhằm thúc đẩy ngành công nghiệp thiết bị và vật liệu sản xuất chip của nước này.
Cơ sở mới dự kiến được xây dựng trong vòng từ ba đến năm năm, đáng chú ý là được trang bị thiết bị quang khắc cực tím (EUV). Các nhà sản xuất thiết bị và công ty vật liệu sẽ trả phí để sử dụng cơ sở này cho mục đích tạo mẫu và thử nghiệm. Đây sẽ là trung tâm đầu tiên tại Nhật Bản mà thành viên trong lĩnh vực chip có thể sử dụng thiết bị quang khắc cực tím.
Quang khắc cực tím (EUV) là công nghệ thiết yếu để sản xuất chất bán dẫn ở quy mô 5 nanomet trở xuống, có giá hơn 40 tỷ yen (tương đương 273 triệu USD) cho mỗi đơn vị, một khoản đầu tư mà các nhà cung cấp vật liệu và thiết bị khó có thể tự thực hiện.
Các công ty của Nhật Bản hiện vẫn đang sử dụng thiết bị EUV thuộc sở hữu của các viện nghiên cứu ở nước ngoài.
Viện Khoa học và Công nghệ Công nghiệp Tiên tiến Quốc gia Nhật Bản sẽ điều hành cơ sở này trong khi Intel sẽ cung cấp chuyên môn về sản xuất chip bằng công nghệ EUV. Tổng vốn đầu tư vào trung tâm này dự kiến sẽ lên tới hàng trăm triệu USD.
Cạnh tranh chiến lược Mỹ - Trung đã khiến Washington thắt chặt hạn chế đối với các thiết bị quang khắc cực tím EUV. Do vậy, việc đưa dữ liệu trở lại Nhật Bản từ các nghiên cứu ở nước ngoài sẽ tốn nhiều thời gian do các lệnh kiểm soát của Mỹ. Việc có sẵn thiết bị EUV trong nước sẽ giúp Nhật Bản dỡ bỏ được rào cản trên.
Bình luận (0)